Pievienot darbus Atzīmētie0
Darbs ir veiksmīgi atzīmēts!

Atzīmētie darbi

Skatītie0

Skatītie darbi

Grozs0
Darbs ir sekmīgi pievienots grozam!

Grozs

Reģistrēties

interneta bibliotēka
Atlants.lv bibliotēka
0,99 € Ielikt grozā
Gribi lētāk?
Identifikators:888760
 
Autors:
Vērtējums:
Publicēts: 03.01.2005.
Valoda: Latviešu
Līmenis: Vidusskolas
Literatūras saraksts: 3 vienības
Atsauces: Nav
Darba fragmentsAizvērt

Pusvadītāju ietaišu un integrālo mikroshēmu izgatavošanas tehnoloģiju parasti sadala 3 daļās:

1) Vielu slāņu vai plēvju uzlikšana uz pusvadītāju plāksnēm;
2) Vielu noņemšana no pusvadītāju plāksnēm;
3) Piemaisījumu atomu/jonu pārkārtošana starp ārējo vidi un pusvadītāju plākšņu virsmu vai tilpumu.
Pirmajos divos procesos mainās tikai plākšņu ģeometrija, bet pēdējā – sastāvs, iekšējo apgabalu īpašības un struktūra. Parasti pielieto silicija kristāla plāksnes ar p-tipa vadītspēju. Tehnoloģiskā procesā tiek apstrādāta tikai viena silicija plāksnes puse, tāpēc tehnoloģija saucās planārā tehnoloģija.

Autora komentārsAtvērt
Darbu komplekts:
IZDEVĪGI pirkt komplektā ietaupīsi −2,48 €
Materiālu komplekts Nr. 1137584
Parādīt vairāk līdzīgos ...

Atlants

Izvēlies autorizēšanās veidu

E-pasts + parole

E-pasts + parole

Norādīta nepareiza e-pasta adrese vai parole!
Ienākt

Aizmirsi paroli?

Draugiem.pase
Facebook

Neesi reģistrējies?

Reģistrējies un saņem bez maksas!

Lai saņemtu bezmaksas darbus no Atlants.lv, ir nepieciešams reģistrēties. Tas ir vienkārši un aizņems vien dažas sekundes.

Ja Tu jau esi reģistrējies, vari vienkārši un varēsi saņemt bezmaksas darbus.

Atcelt Reģistrēties